*大旋鈕探針台 *可兼顧直流和射頻應用 *針座平臺可上下升降 *加裝探針卡使用
*支持定制
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HCC602溫控晶圓夾盤支持 -190℃ ~ 600℃範圍的樣品溫控，並且溫度均勻性好。主機設計小巧，可以集成到光學顯微鏡，紅外，拉曼光譜儀等設備，進行溫控的同時支持光學觀察，也可集成到探針臺上，進行電學測試。 結構緊湊，可集成到晶圓探針臺上，設計用於探針測試 可編程控溫，涵蓋不同溫度段（具體由型號而定） 適用不同尺寸晶圓的真空吸附槽設計 可降溫到 80K 可從溫控器或電腦軟件控制，可提供軟件SDK*支持定制 -
高壓線性放大器是一種通用的寬帶線性放大器，具有固定或可變放大和雙極或單極輸出能力。放大器的輸出是線性的，從直流到兆赫的範圍，並存在於單通道和雙通道。 高壓線性放大器對於科研院所、研發實驗室和元器件制造行業來說應用廣。常見的例子有驅動壓電驅動器、MEMS、oled、液晶等。 放大器設計用於驅動電阻和/或小電容負載。輸出配有一個可承受意外短路的限流電路。*支持定制 -
高壓線性放大器是具有固定或可變放大率並且能夠雙極性或單極性輸出的通用寬頻線性放大器。 放大器的輸出在直流至兆赫茲範圍內都是線性的，並存在於單通道和雙通道型號中。 高壓線性放大器是適用於研究機構，研發實驗室和零部件制造行業的有價值的工具，應用範圍廣。常見的例子是驅動壓電致動器，MEMS，OLED，液晶等。 放大器設計為驅動電阻性和/或小的電容性負載。 輸出配有限流電路，可承受意外短路。*支持定制 -
HP1200G高溫熱為顯微鏡/光譜儀上的超高溫應用設計，可用於陶瓷、冶金、地質、高溫材料等領域。可加裝樣品接電引線，可定制樣品區。 此款冷熱臺可在 30℃ ~ 1200℃ 範圍內控溫，同時允許光學觀察和樣品氣體環境控制。熱臺窗蓋與臺體構成一個氣密腔，可以充入氮氣等保護氣體，來防止樣品高溫下反應。此外另有真空腔型號HP1000V提供。*支持定制 -
HCS350G-TNS為變溫拉伸測試而設計，並且可用於顯微鏡/光譜儀。其可在 -190℃ ~ 350℃ 範圍內控溫，同時允許光學觀察和樣品氣體環境控制。臺體內部的精密電機驅動兩根同軸反向絲桿，帶動樣品兩段的拉伸機構以相同速度遠離。拉伸過程中樣品中心處於溫控塊上。*支持定制 -
HCP621G為顯微鏡/光譜儀設計。此款冷熱臺可在 -190℃ ~ 600℃ 範圍內控溫，同時允許光學觀察和樣品氣體環境控制。熱臺上蓋與底殼構成一個氣密腔，可往內充入氮氣等保護氣體，來防止樣品在負溫下結霜，或高溫下氧化。此外另有真空腔型號HCP421V提供。*支持定制 -
HCP421G-ELP為橢圓偏振儀設計。其上蓋支持70°的出入射角度，臺體溫度範圍 -190℃ ~ 400℃，同時允許光學觀察和樣品氣體環境控制。上蓋與底殼構成一個真空腔，也可往內充入氮氣等保護氣體，來防止樣品在負溫下結霜，或高溫下氧化。*支持定制 -
磁場氣隙雙向可調，單軛的結構，磁場方向水平；直立座放，有很寬闊的工作空間，便於取放樣品和與其他設備的組合架構，是磁性研究常見的電磁鐵之一。適用於霍爾效應研究，磁電阻效應研究、磁滯伸縮研究、轉矩磁強計、力法磁強計、振動樣品磁強計、磁化率測量裝置、磁性材料測量裝置等。電磁鐵磁場空間開闊，氣隙調節範圍寬，為實驗、工廠應用普遍的類型。*支持定制
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